| rdfs:comment
| - Исто́чники пла́змы - устройства, предназначенные для создания плазмы.Создание плазмы требует по меньшей мере частичной ионизации нейтральных атомов и/или молекул среды. В технике, как правило, для создания плазмы используются те или иные виды газового разряда. Источники плазмы для низких давлений не имеют общего названия и классифицируются по принципу действия: Источники плазмы имеют множество применений, в частности источники света и плазменная обработка материалов. (ru)
- Джере́ла пла́зми — пристрої, призначені для створення плазми. Створення плазми вимагає щонайменше часткової йонізації нейтральних атомів та/або молекул середовища. У техніці, як правило, для створення плазми використовують ті чи інші види газового розряду. Джерела плазми для низьких тисків не мають загальної назви і класифікуються за принципом дії: Джерела плазми мають безліч застосувань, зокрема як джерела світла і для плазмового оброблення матеріалів. (uk)
|
| has abstract
| - Исто́чники пла́змы - устройства, предназначенные для создания плазмы.Создание плазмы требует по меньшей мере частичной ионизации нейтральных атомов и/или молекул среды. В технике, как правило, для создания плазмы используются те или иные виды газового разряда. Источники плазмы высокого (от 1000 Па до атмосферного и, редко, выше) давления называют плазмотронами или плазменными горелками. В них, как правило, плазма образуется в специальной разрядной камере, сквозь которую продувается плазмообразующий газ. Наиболее часто используются дуговой или индукционный разряд. Для небольших мощностей (до нескольких кВт) распространены также СВЧ плазмотроны. Источники плазмы для низких давлений не имеют общего названия и классифицируются по принципу действия:
* Дуговые:
* с холодным катодом;
* с накалённым катодом;
* двухступенчатые;
* На основе , в частности, с ;
* Индуктивно-связанные:
* с катушкой в форме соленоида;
* с плоской катушкой;
* на основе геликонного разряда
*
* На основе сверхвысокочастотного разряда, в том числе с использованием:
* электронного циклотронного резонанса;
* разряда на поверхностной волне;
* На основе разряда в скрещенных полях:
* источники Холла;
* источники с анодным слоем. Источники плазмы имеют множество применений, в частности источники света и плазменная обработка материалов. (ru)
- Джере́ла пла́зми — пристрої, призначені для створення плазми. Створення плазми вимагає щонайменше часткової йонізації нейтральних атомів та/або молекул середовища. У техніці, як правило, для створення плазми використовують ті чи інші види газового розряду. Джерела плазми високого (від 1000 Па до атмосферного і, рідко, вище) тиску називають плазмотронами або плазмовими пальниками. У них, як правило, плазма утворюється в спеціальній розрядній камері, крізь яку продувається плазмотвірний газ. Найчастіше використовують дуговий або індукційний розряд. Для невеликих потужностей (до декількох кВт) поширені також НВЧ плазмотрони. Джерела плазми для низьких тисків не мають загальної назви і класифікуються за принципом дії:
* Дугові:
* ;
* ;
* двоступеневий;
* На основі , зокрема, з ;
* :
* з котушкою у формі соленоїда;
* з плоскою котушкою;
* на основі
*
* На основі надвисокочастотного розряду, зокрема з використанням:
* електронного циклотронного резонансу;
* розряду на поверхневій хвилі;
* На основі розряду в схрещених полях:
* джерела Голла;
* джерела з анодним шаром. Джерела плазми мають безліч застосувань, зокрема як джерела світла і для плазмового оброблення матеріалів. (uk)
|
![[RDF Data]](/fct/images/sw-rdf-blue.png)
![[cxml]](/fct/images/cxml_doc.png)
![[csv]](/fct/images/csv_doc.png)
![[text]](/fct/images/ntriples_doc.png)
![[turtle]](/fct/images/n3turtle_doc.png)
![[ld+json]](/fct/images/jsonld_doc.png)
![[rdf+json]](/fct/images/json_doc.png)
![[rdf+xml]](/fct/images/xml_doc.png)
![[atom+xml]](/fct/images/atom_doc.png)
![[html]](/fct/images/html_doc.png)