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| - 90 nanòmetres (90 nm) és una tecnologia de fabricació de semiconductors en què els components tenen una dimensió de 90 nm. És una millora de la tecnologia de 65 nm. La llei de Moore diu que la superfície és redueix a la meitat cada 2 anys, per tant el costat del quadrat de la nova tecnologia serà de . Sabent que els àtoms de silici tenen una distància entre ells de 0,543 nm, llavors el transistor té de l'ordre de 165 àtoms de llargada. (ca)
- 90 nm désigne la technologie de gravure de microprocesseurs qui a été atteinte dans les années 2004-2005 par les principaux fabricants, à savoir Intel, AMD, Infineon, Texas Instruments, IBM et TSMC. Parmi les microprocesseurs gravés en 90 nm figure le Pentium 4 d'Intel, l'Athlon 64 d'AMD, ou les premières générations de Xenon.C'est également avec cette finesse qu'étaient gravés les CPU et GPU des premiers modèles de PlayStation 3. (fr)
- 90 nm(나노미터) 공정은 회로선 폭이 90 nm인 반도체를 다루는 공정 기술 수준이다. 인텔, AMD, 인피니온 테크놀로지스, 텍사스 인스트루먼트, IBM, TSMC와 같은 대부분의 주요 반도체 기업이 2002년에서 2003년경 도달한 CMOS 공정 기술의 수준이다. (ko)
- 90纳米制程是半导体制造制程的一个水平，大约于2004年至2005年左右达成。 这一制程由当时领先的半导体公司如英特尔、AMD、英飞凌、德州仪器、IBM和台積電所完成。 许多厂商使用了193纳米的波长来进行关键层级的光刻。 此外，12英寸晶圓在这个制程上成为主流。 (zh)
- The 90 nm process refers to the level of MOSFET (CMOS) fabrication process technology that was commercialized by the 2003–2005 timeframe, by leading semiconductor companies like Toshiba, Sony, Samsung, IBM, Intel, Fujitsu, TSMC, Elpida, AMD, Infineon, Texas Instruments and Micron Technology. The origin of the 90 nm value is historical, it reflects a trend of 70% scaling every 2–3 years. The naming is formally determined by the International Technology Roadmap for Semiconductors (ITRS). (en)
- 90 nanómetros se refiere a una tecnología de proceso de semiconductores alcanzada entre los años 2003 y 2004 por parte de las principales empresas del sector, tales como las estadounidenses Intel, AMD, Infineon, Texas Instruments, IBM y la taiwanesa TSMC. Los haces láser de 193 nanómetros de longitud de onda fueron introducidos por varias (pero no todas) las compañías del sector para realizar el estampados litográficos de las capas críticas. (es)
- Il processo produttivo a 90 nm (90 nanometri) è l'evoluzione del precedente processo a 130 nm utilizzato per i microprocessori Intel dai primi mesi del 2004 e AMD dai primi mesi del 2005. Il termine "90 nm" indica la dimensione media del gate di ogni singolo transistor. Per avere un'idea di cosa voglia dire "90 nm" basti considerare che il virus dell'HIV è grande circa 120 nm, un globulo rosso umano circa 6000-8000 nm e un capello quasi 80000 nm. Il successore di questo processo utilizza una larghezza di canale di 65 nm. (it)
- 90 nanômetros (90 nm) refere-se a um processo ao nível da tecnologia CMOS , que foi alcançado no período 2004-2005, pela maioria das principais empresas de semicondutores, como Intel, AMD, Infineon, Texas Instruments, IBM, e TSMC. A origem dos 90 nm tem valor histórico, pois reflete uma tendência de 70% de redimensionamento do processo de construção a cada 2-3 anos. A nomeação é formalmente determinados pelo International Technology Roadmap for Semiconductors (ITRS). (pt)
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