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Subject Item
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600 nm عملية 600 نانومتر 600 nm 600 nm 공정 600 nanómetros 600 nanômetros 600 nm process 600纳米制程 600 nanòmetres
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600 nm(나노미터) 공정 또는 0.6 µm(마이크로미터) 공정은 회로선 폭이 600 nm인 반도체를 다루는 공정 기술 수준이다. 1994년에서 1995년 경 미츠비시, 일렉트릭, 도시바, NEC, 인텔, IBM 등의 선두적인 반도체 기업들에 의해 상용화된 공정 기술이다. 600 nm désigne un procédé de fabrication des semi-conducteurs, gravés avec une finesse de 0,6 micromètre. Les premiers processeurs possédant cette technologie sont apparus sur le marché en 1994. Selon la feuille de route de l'ITRS le successeur du 600 nm est la technologie 350 nm. 600 nanòmetres (600 nm) és una tecnologia de fabricació de semiconductors en què els components tenen una dimensió de 600 nm. És una millora de la tecnologia de 800 nm. La llei de Moore diu que la superfície és redueix a la meitat cada 2 anys, per tant el costat del quadrat de la nova tecnologia serà de . Sabent que els àtoms de silici tenen una distància entre ells de 0,543 nm, llavors el transistor té de l'ordre de 1105 àtoms de llargada. The 600 nanometer (600 nm) process refers to the level of semiconductor process technology that was reached in the 1994–1995 timeframe, by most leading semiconductor companies, like Intel and IBM. 600 nanómetros se refiere a una tecnología de proceso de la industria de los semiconductores que fue ofrecido entre los años 1994 y 1995 por las principales empresas de semiconductores, tales como Intel e IBM. Il 600 nm (600 nanometri o 0,60 µm) evoluzione del precedente processo a 800 nm è un processo produttivo della tecnologia dei semiconduttori con cui vengono prodotti i circuiti integrati a larghissima scala di integrazione (VLSI). Questo processo fu introdotto negli anni 1994-1995 dalle principali industrie di semiconduttori come Intel e IBM. Il successore di questo processo utilizza una larghezza di canale di 350 nanometri. عملية 600 نانومتر عملية عملية 600 نانومتر (بالإنجليزية: 800 nm process )‏ عملية تشير إلى مستوى عملية تصنيع تقنية أشباه الموصلات التي تم التوصل إليها بحدود العامين 1994–1995 ميلادي من قبل الشركات الرائدة في مجال أشباه الموصلات، مثل إنتل وآي‌ بي‌ إم. 600纳米制程，又稱0.6微米製程，是半导体制造制程的一个水平，大约于1994年至1995年左右达成。 这一制程由当时领先的半导体公司如英特尔和IBM所完成。 O processo de 600 nm refere-se ao nível de tecnologia do processo de fabricação de semicondutores MOSFET que foi comercializado por volta do período de 1990 a 1995, por empresas líderes de semicondutores como NTT, NEC, Toshiba, IBM, Mitsubishi Electric e Intel.
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O processo de 600 nm refere-se ao nível de tecnologia do processo de fabricação de semicondutores MOSFET que foi comercializado por volta do período de 1990 a 1995, por empresas líderes de semicondutores como NTT, NEC, Toshiba, IBM, Mitsubishi Electric e Intel. 600纳米制程，又稱0.6微米製程，是半导体制造制程的一个水平，大约于1994年至1995年左右达成。 这一制程由当时领先的半导体公司如英特尔和IBM所完成。 600 nm(나노미터) 공정 또는 0.6 µm(마이크로미터) 공정은 회로선 폭이 600 nm인 반도체를 다루는 공정 기술 수준이다. 1994년에서 1995년 경 미츠비시, 일렉트릭, 도시바, NEC, 인텔, IBM 등의 선두적인 반도체 기업들에 의해 상용화된 공정 기술이다. The 600 nanometer (600 nm) process refers to the level of semiconductor process technology that was reached in the 1994–1995 timeframe, by most leading semiconductor companies, like Intel and IBM. Il 600 nm (600 nanometri o 0,60 µm) evoluzione del precedente processo a 800 nm è un processo produttivo della tecnologia dei semiconduttori con cui vengono prodotti i circuiti integrati a larghissima scala di integrazione (VLSI). Questo processo fu introdotto negli anni 1994-1995 dalle principali industrie di semiconduttori come Intel e IBM. Il successore di questo processo utilizza una larghezza di canale di 350 nanometri. 600 nanómetros se refiere a una tecnología de proceso de la industria de los semiconductores que fue ofrecido entre los años 1994 y 1995 por las principales empresas de semiconductores, tales como Intel e IBM. عملية 600 نانومتر عملية عملية 600 نانومتر (بالإنجليزية: 800 nm process )‏ عملية تشير إلى مستوى عملية تصنيع تقنية أشباه الموصلات التي تم التوصل إليها بحدود العامين 1994–1995 ميلادي من قبل الشركات الرائدة في مجال أشباه الموصلات، مثل إنتل وآي‌ بي‌ إم. 600 nm désigne un procédé de fabrication des semi-conducteurs, gravés avec une finesse de 0,6 micromètre. Les premiers processeurs possédant cette technologie sont apparus sur le marché en 1994. Selon la feuille de route de l'ITRS le successeur du 600 nm est la technologie 350 nm. 600 nanòmetres (600 nm) és una tecnologia de fabricació de semiconductors en què els components tenen una dimensió de 600 nm. És una millora de la tecnologia de 800 nm. La llei de Moore diu que la superfície és redueix a la meitat cada 2 anys, per tant el costat del quadrat de la nova tecnologia serà de . Sabent que els àtoms de silici tenen una distància entre ells de 0,543 nm, llavors el transistor té de l'ordre de 1105 àtoms de llargada.
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