This HTML5 document contains 86 embedded RDF statements represented using HTML+Microdata notation.

The embedded RDF content will be recognized by any processor of HTML5 Microdata.

Namespace Prefixes

PrefixIRI
dbpedia-dehttp://de.dbpedia.org/resource/
dctermshttp://purl.org/dc/terms/
yago-reshttp://yago-knowledge.org/resource/
dbohttp://dbpedia.org/ontology/
n18http://dbpedia.org/resource/File:
foafhttp://xmlns.com/foaf/0.1/
dbpedia-kohttp://ko.dbpedia.org/resource/
n14https://global.dbpedia.org/id/
yagohttp://dbpedia.org/class/yago/
dbpedia-ruhttp://ru.dbpedia.org/resource/
dbthttp://dbpedia.org/resource/Template:
dbpedia-ukhttp://uk.dbpedia.org/resource/
rdfshttp://www.w3.org/2000/01/rdf-schema#
freebasehttp://rdf.freebase.com/ns/
n8http://commons.wikimedia.org/wiki/Special:FilePath/
rdfhttp://www.w3.org/1999/02/22-rdf-syntax-ns#
owlhttp://www.w3.org/2002/07/owl#
wikipedia-enhttp://en.wikipedia.org/wiki/
dbphttp://dbpedia.org/property/
dbchttp://dbpedia.org/resource/Category:
provhttp://www.w3.org/ns/prov#
xsdhhttp://www.w3.org/2001/XMLSchema#
dbpedia-nlhttp://nl.dbpedia.org/resource/
wikidatahttp://www.wikidata.org/entity/
goldhttp://purl.org/linguistics/gold/
dbrhttp://dbpedia.org/resource/
dbpedia-jahttp://ja.dbpedia.org/resource/

Statements

Subject Item
dbr:Immersion_lithography
rdf:type
dbo:TopicalConcept yago:BodyPart105220461 yago:SenseOrgan105299178 yago:WikicatPhysicalOptics yago:Organ105297523 yago:PhysicalEntity100001930 yago:Eye105311054 yago:WikicatGeometricalOptics yago:Thing100002452 yago:Part109385911
rdfs:label
Иммерсионная литография Імерсія (оптика) 액침 노광 Immersionslithografie Immersion lithography Immersielithografie
rdfs:comment
액침 노광(液浸露光, 영어: Immersion Lithography)은 렌즈와 웨이퍼 표면 사이의 공간을 굴절률이 큰 액체의 매질로 대체하여 포토리쏘그래피의 분해능을 증가시키는 기술이다. 액체의 굴절률이 늘어남에 따라 각도 분해능도 늘어나게 된다. 최근의 액침 노광 장치들은 이 액체로 순도 높은 물을 사용하여 37 나노미터 이하의 폭에 도달했다. , Nikon, Canon만이 액침 노광을 사용하는 공장이다. Immersielithografie is een techniek om de details, die ten behoeve van de chipsfabricage op een wafer worden geëtst, te verkleinen. Immersion lithography is a photolithography resolution enhancement technique for manufacturing integrated circuits (ICs) that replaces the usual air gap between the final lens and the wafer surface with a liquid medium that has a refractive index greater than one. The resolution is increased by a factor equal to the refractive index of the liquid. Current immersion lithography tools use highly purified water for this liquid, achieving feature sizes below 45 nanometers. ASML and Nikon are currently the only manufacturers of immersion lithography systems. Иммерсионная литография (англ. Immersion lithography) — в фотолитографии для микроэлектроники — способ повышения разрешающей способности за счёт заполнения воздушного промежутка между последней линзой и плёнкой фоторезиста жидкостью с показателем преломления более 1 (метод иммерсии). Угловое разрешение увеличивается пропорционально показателю преломления. Современные литографические установки используют в качестве жидкости высокоочищенную воду, позволяя работать с техпроцессом менее 45 нм. Системы с использованием иммерсионной литографии выпускаютсялишь ASML, Nikon и Canon. Улучшением данной технологии можно считать методику HydroLith, в которой измерения и позиционирование производится на сухой пластине, а экспонирование — на «мокрой». Імерсія (лат. immersio, від immergo — занурюю, рос. иммерсия, англ. immersion, нім. Immersionsflüssigkeit f) — введення рідини (кедрової олії, вазеліну, водного розчину гліцерину) між розглядуваним предметом і об'єктивом мікроскопа, щоб підвищити освітленість зображення. Імерсія використовується також у фотолітографії, де введення рідини з показником заломлення, більшим від одиниці, між об'єктивом і поверхнею, дозволяє збільшити роздільну здатність. Принцип імерсії розробив у XIX столітті італійський астроном, ботанік і оптик Джованні Амічі. Die Immersionslithografie ist eine Technik im Produktionsprozess der Mikroelektronik zur schärferen Abbildung bei der fotolithografischen Strukturierung. Die Technik nutzt dabei dasselbe Prinzip wie die Immersionsmikroskopie, sie dient aber nicht der Betrachtung eines Objekts, sondern der verkleinerten Projektion einer auf einer Fotomaske vorhandenen Struktur in eine Fotolackschicht, vgl. Fotolithografie (Halbleitertechnik). Es handelt sich dabei um eine Verbesserung der Projektionsbelichtung, bei der die Luft im Spalt zwischen der letzten Linse und der Wafer-Oberfläche durch eine Immersionsflüssigkeit (transparente Flüssigkeit mit möglichst hohem Brechungsindex) ersetzt wird. Dies erlaubt im Vergleich zu bauähnlichen Anlagen ohne Immersionsmedium die Herstellung von kleineren Strukturen,
foaf:depiction
n8:LELELE_patterning.png n8:Pitch_splitting.png n8:Immersion_tool_throughput.png n8:Immersion_lithography_illustration.svg
dcterms:subject
dbc:Lithography_(microfabrication) dbc:Taiwanese_inventions
dbo:wikiPageID
642936
dbo:wikiPageRevisionID
1120892656
dbo:wikiPageWikiLink
dbr:Water_immersion_objective dbr:Refractive_index dbr:Nikon dbr:Antireflection dbr:Burn_J._Lin dbr:Photolithography dbc:Lithography_(microfabrication) n18:Immersion_lithography_illustration.svg n18:Immersion_tool_throughput.png dbr:Angular_resolution dbc:Taiwanese_inventions dbr:Oil_immersion dbr:IBM n18:LELELE_patterning.png dbr:ASML_Holding dbr:Optical_lithography dbr:Photoresist n18:Pitch_splitting.png dbr:Ultraviolet dbr:20nm dbr:Ghavam_Shahidi dbr:Line-space dbr:Numerical_aperture dbr:Multiple_patterning dbr:Polarization_effect dbr:Argon_fluoride_laser dbr:Silicon
owl:sameAs
freebase:m.02zws9 dbpedia-nl:Immersielithografie wikidata:Q1076175 yago-res:Immersion_lithography n14:9WKh dbpedia-uk:Імерсія_(оптика) dbpedia-ko:액침_노광 dbpedia-ru:Иммерсионная_литография dbpedia-de:Immersionslithografie
dbp:wikiPageUsesTemplate
dbt:Clarify dbt:Cn dbt:When dbt:Unreferenced_section dbt:Short_description dbt:Reflist
dbo:thumbnail
n8:Immersion_lithography_illustration.svg?width=300
dbo:wikiPageInterLanguageLink
dbpedia-ja:液浸
dbp:date
November 2020
dbp:reason
"However" implies a contrast, but both sentences describe advantages.
dbo:abstract
액침 노광(液浸露光, 영어: Immersion Lithography)은 렌즈와 웨이퍼 표면 사이의 공간을 굴절률이 큰 액체의 매질로 대체하여 포토리쏘그래피의 분해능을 증가시키는 기술이다. 액체의 굴절률이 늘어남에 따라 각도 분해능도 늘어나게 된다. 최근의 액침 노광 장치들은 이 액체로 순도 높은 물을 사용하여 37 나노미터 이하의 폭에 도달했다. , Nikon, Canon만이 액침 노광을 사용하는 공장이다. Иммерсионная литография (англ. Immersion lithography) — в фотолитографии для микроэлектроники — способ повышения разрешающей способности за счёт заполнения воздушного промежутка между последней линзой и плёнкой фоторезиста жидкостью с показателем преломления более 1 (метод иммерсии). Угловое разрешение увеличивается пропорционально показателю преломления. Современные литографические установки используют в качестве жидкости высокоочищенную воду, позволяя работать с техпроцессом менее 45 нм. Системы с использованием иммерсионной литографии выпускаютсялишь ASML, Nikon и Canon. Улучшением данной технологии можно считать методику HydroLith, в которой измерения и позиционирование производится на сухой пластине, а экспонирование — на «мокрой». Immersielithografie is een techniek om de details, die ten behoeve van de chipsfabricage op een wafer worden geëtst, te verkleinen. Immersion lithography is a photolithography resolution enhancement technique for manufacturing integrated circuits (ICs) that replaces the usual air gap between the final lens and the wafer surface with a liquid medium that has a refractive index greater than one. The resolution is increased by a factor equal to the refractive index of the liquid. Current immersion lithography tools use highly purified water for this liquid, achieving feature sizes below 45 nanometers. ASML and Nikon are currently the only manufacturers of immersion lithography systems. Імерсія (лат. immersio, від immergo — занурюю, рос. иммерсия, англ. immersion, нім. Immersionsflüssigkeit f) — введення рідини (кедрової олії, вазеліну, водного розчину гліцерину) між розглядуваним предметом і об'єктивом мікроскопа, щоб підвищити освітленість зображення. Імерсія використовується також у фотолітографії, де введення рідини з показником заломлення, більшим від одиниці, між об'єктивом і поверхнею, дозволяє збільшити роздільну здатність. Принцип імерсії розробив у XIX столітті італійський астроном, ботанік і оптик Джованні Амічі. Die Immersionslithografie ist eine Technik im Produktionsprozess der Mikroelektronik zur schärferen Abbildung bei der fotolithografischen Strukturierung. Die Technik nutzt dabei dasselbe Prinzip wie die Immersionsmikroskopie, sie dient aber nicht der Betrachtung eines Objekts, sondern der verkleinerten Projektion einer auf einer Fotomaske vorhandenen Struktur in eine Fotolackschicht, vgl. Fotolithografie (Halbleitertechnik). Es handelt sich dabei um eine Verbesserung der Projektionsbelichtung, bei der die Luft im Spalt zwischen der letzten Linse und der Wafer-Oberfläche durch eine Immersionsflüssigkeit (transparente Flüssigkeit mit möglichst hohem Brechungsindex) ersetzt wird. Dies erlaubt im Vergleich zu bauähnlichen Anlagen ohne Immersionsmedium die Herstellung von kleineren Strukturen, da eine größere numerische Apertur (NA) und Abbildungstiefe (engl. depth of focus, DOF) erreicht werden. Die Einführung der Immersionslithografie ermöglichte es, bestehende Lithografiesysteme (Kombination aus Linsensystem, Fotomasken, Fotolacke usw.) auf Basis von ArF-Excimerlasern – nach deren Wellenlänge auch 193-nm-Lithografie genannt – weiterhin zu nutzen und dennoch kleinere Strukturen zu fertigen. Damit konnte die Einführung kostenintensiver und noch nicht für die industrielle Massenproduktion tauglicher Alternativen, wie die EUV- oder Elektronenstrahllithografie, vorerst weiter verschoben werden. In der Evolution der Lithografiesysteme ist es nach derzeitigem Wissen das letzte, das auf Brechung basiert. Die Immersionslithografie ist die gängigste Technik, um integrierte Schaltkreise mit Strukturgrößen von 28 nm bis zu 10 nm in der industriellen Massenproduktion zu fertigen und stellt damit eine Schlüsseltechnik für die Herstellung von Produkten der Mikroelektronik wie Hauptprozessoren von Computern, System-on-a-Chip von Smartphones usw. dar.
gold:hypernym
dbr:Technique
prov:wasDerivedFrom
wikipedia-en:Immersion_lithography?oldid=1120892656&ns=0
dbo:wikiPageLength
8659
foaf:isPrimaryTopicOf
wikipedia-en:Immersion_lithography